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認識光罩
光罩係將電腦所設計之半導體迴路輸寫於半導體薄片(wafer)之前最先被呈現之半導體零件。此與照相原理相同;如同利用底片能夠洗出數千張之照片,利用光罩能夠在眾多的wafer上 ...
半導體產業的製程技術,隨世代持續演進,中華凸版提供的光罩 ... - TCE
在半導體,如LSI,的製造過程中,在光罩的圖案被微縮並且多次在矽晶圓上曝光而步進機( 例如,微縮投影型曝光機) 移位,同時傳輸多個元件圖案到每片晶圓上。
光掩膜
一個光罩是一片熔融矽石(石英)板,通常為6平方英寸(約152平方毫米),其上覆蓋著在微影製程中由不透明、透明和相偏移區域所組成的圖案被投影到晶圓上,以定義單層積 ...
光罩_百度百科
光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时, ...
台灣光罩股份有限公司
承續44年光罩之研發及製造經驗,台灣光罩與IC工業共同成長,一起建立實力堅強的完整產業體系。 目前已採用OPC及PSM技術大量生產0.18、0.15、0.11及0.09微米光罩,展現台灣 ...
應用: 光罩製造 - artemis control ag
光罩是具有集成電路(IC)的每一層的布局設計圖。它們是複雜的產品,具有高精密性和完整性並能夠承受曝光程序中高能量光線照射。 降低線寬同時是對半導體結構中導線 ...
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