相 偏 移 光罩 搜尋引擎推薦回答
CN104020639A - 相偏移光罩的制作方法 - Google Patents
本发明公开了一种相偏移光罩的制作方法，在形成图案化的相移层之后，采用等离子体处理所述图案化的相移层，生成了稳定性更高的致密膜层，之后再进行清洗， ...
TWI453529B - 相偏移光罩基底及相偏移光罩之製造方法
相偏移光罩係可利用移相器所致之光之干涉作用而提高轉印圖案之解析度之光罩。 又，因通常微細加工半導體基板時之光微影係利用縮小投影曝光來進行，故形成於轉印用光罩上之 ...
