相偏移光罩 - 愛玩股

前往CN104020639A - 相偏移光罩的制作方法 - Google Patents

您即將離開本站，並前往CN104020639A - 相偏移光罩的制作方法 - Google Patents

確認前往返回上頁

其它人也問了

光罩基金會光罩管理光罩股東會光罩半導體光罩投信持股比例 PSM 光罩光罩業務光罩英文光罩類股

熱門搜尋網頁

光學微影用之高穿透衰減式相位偏移光罩 - DSpace-CRIS at NKUST

Abstract: 本發明係有關於一種光學微影用之高穿透衰減式相位偏移光罩，其主要是採用(Al2O3)/(TiO2)[氧化鋁/二氧化鈦]多層膜當作高穿透衰減式相位偏移光罩之相位移層， ...

環形偏軸發光與調細式相移光罩最適化模擬與應用

偏軸發光應用於微影成像技術有多項優點,最大優點為在不改變i-線(365 奈米)的原有製程條件下,可大幅改善聚焦深度;其次包括應用簡單,最簡單的方法為曝光步進機加裝遮光板 ...

一個光罩是一片熔融矽石（石英）板，通常為6平方英寸（約152平方毫米），其上覆蓋著在微影製程中由不透明、透明和相偏移區域所組成的圖案被投影到晶圓上，以定義單層積 ...

改善解析度的方法- 光學儀器的解析力 - Google Sites

相偏移光罩(Phase Shift Mask). 在傳統光罩的圖形上，選擇性地在透光區加上透明但能使光束相位反轉180度的反向層，根據繞射原理，行經不同相鄰透光區之光線，其影像會 ...

[PDF] 相轉移光罩技術 - 材料世界網

此類型光罩的製造方法與Rim Type. 極為相似。第一次光阻塗佈及電子束微. 影成像後，即一次蝕刻穿過鉻膜及相轉. 移 ...

PSM光罩(相位偏移光罩) - 台灣光罩股份有限公司

Half tone phase shift. 在圖樣線的交界處可以透過交界處兩邊有相位差180度，使的曝光在晶圓上所產生的繞射是破壞性干涉，因此，可以提高圖樣邊緣的解析度以及對比度。

免責聲明

本網站所有資料僅供參考，如使用者依本資料交易發生交易損失需自行負責，本網站對資料內容錯誤﹑更新延誤不負任何責任。