PSM光罩 - 愛玩股

前往PSM光罩(相位偏移光罩) - 台灣光罩股份有限公司

您即將離開本站，並前往PSM光罩(相位偏移光罩) - 台灣光罩股份有限公司

確認前往返回上頁

其它人也問了

光罩股東會相偏移光罩光罩英文光罩基金會光罩類股光罩業務光罩管理光罩投信持股比例光罩半導體

熱門搜尋網頁

半導體器件用光掩模| TOPPAN PHOTOMASK

移相掩模（Phase-Shifting Mask：PSM）指透過控制光的相位及透過率，改善對晶圓曝光時的分辨率及焦點深度（DOF：Depth of Focus），是提高了復刻特性的光掩模。

業務與服務 - 台灣美日先進光罩股份有限公司

2.光學近距修正光罩（Optical Proximity Correction Mask）的製作銷售。 3.相位移光罩（Phase Shift 6 inch Mask）：（a）Half-Tone PSM （b）Alternating PSM

CN1470943A - 光罩组合及其形成细线图案的曝光方法 - Google Patents

本发明揭露一种光罩组合，包括：一第一光罩，具有平行且交错排列的复数相位0度透光 ... 本发明的主要特征在于利用一相位移光罩(PSM)(例如：交错式相位移光罩)与一传统 ...

确保光掩模图形准确且零缺陷至关重要，对高端芯片更是如此。一個光罩是一片熔融矽石（石英）板，通常為6平方英寸（約152平方毫米），其上覆蓋著 ...

[PDF] 相轉移光罩技術 - 材料世界網

光罩技術更是微影成像中不可或缺的重. 要一環。有先進的光罩技術可延長同一 ... 相轉移光罩的概論及原理、製程技術及 ... 相轉移光罩(PSM, Phase-Shift Mask)的；.

光罩工業及其製程技術之探討 - CTIMES

在光罩的製作技術部分，大致可以分成傳統光罩、相位移光罩技術（ Phase Shift Mask；簡稱PSM）、光學近接修正光罩技術（Optical Proximity Correction；簡稱OPC）等三種。

免責聲明

本網站所有資料僅供參考，如使用者依本資料交易發生交易損失需自行負責，本網站對資料內容錯誤﹑更新延誤不負任何責任。